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QT系列防腐涂层
QT系列防腐涂层主要应用于金属材料在常温至300℃高温环境下的抗氧化、耐腐蚀保护。阅读更多
EMI吸热涂层
EMI吸热涂层可长期在1000℃的高温有氧环境下使用，表面发射系数达到0.85-0.90，可涂覆于碳钢、铁、不锈钢、陶瓷等材料表面。阅读更多
FS反射涂层
FS反射涂层可长期在1200℃的高温有氧环境下使用，能有效提高材料表面红外反射率和保温性能。阅读更多
AC高温绝缘涂层
AC高温绝缘涂层可长期在800℃的高温有氧环境下使用，并在高温下保持较好的绝缘性能。阅读更多
SL高温管道涂层
SL高温管道涂层可长期在900℃的高温有氧环境下使用，在保护不锈钢基体和抗氧化的同时，可以增加管道外表面的粗糙度和发射率。阅读更多
FK速干胶
FK速干胶具有耐高温、速干、耐水、易施工的特点，可用于陶瓷粘接或金属和陶瓷之间的异材质粘接。阅读更多
碳化硅胶
碳化硅胶采用全无机体系，不含任何有机挥发物（VOC），在高温下无烟雾、无异味释放，洁净环保。阅读更多
激光无损划片设备
主要用于将光伏电池片切割成特定的尺寸和形状。阅读更多
激光边缘钝化
激光无损刻蚀电池划片区域PN结，抑制边缘复合，降低切损，组件端功率增益≥3W。阅读更多
XBC电池激光开膜
用于 XBC 电池生产过程中对掩膜层进行蚀刻开膜的关键设备阅读更多
低压化学气相沉积镀膜设备LPCVD
在低压氛围下，通过热分解的方式成膜。可制备氧化硅和多种晶硅薄膜，满足隧穿氧化钝化等特殊工序要求，可用于高效N型TOPCon和BC等电池。阅读更多
低压氧化/退火设备
主要用于满足多种太阳能电池结构的热退火和热激活工艺需求。阅读更多
低压硼扩散设备
低压硼扩散设备的核心功能是在低压、高温环境下，将硼元素精准掺杂到硅片表面及内部，形成特定导电类型的掺杂层。阅读更多
低压磷扩散设备
主要用于在硅片上形成磷掺杂层，以创建 PN 结。阅读更多
原子层沉积镀膜系统ALD
通过气态前驱体交替脉冲通入反应腔，在基材表面进行自限制化学吸附与反应，沉积超薄、均匀、致密的原子级薄膜。阅读更多
原子层边缘钝化沉积整线系统
主要用于太阳能电池制造，其核心功能是在电池片边缘沉积钝化层，以提升电池的性能和稳定性。阅读更多

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