光伏主机

拉普拉斯新能源科技股份有限公司产品

低压化学气相沉积镀膜设备LPCVD
在低压氛围下，通过热分解的方式成膜。可制备氧化硅和多种晶硅薄膜，满足隧穿氧化钝化等特殊工序要求，可用于高效N型TOPCon和BC等电池。阅读更多
低压氧化/退火设备
主要用于满足多种太阳能电池结构的热退火和热激活工艺需求。阅读更多
低压硼扩散设备
低压硼扩散设备的核心功能是在低压、高温环境下，将硼元素精准掺杂到硅片表面及内部，形成特定导电类型的掺杂层。阅读更多
低压磷扩散设备
主要用于在硅片上形成磷掺杂层，以创建 PN 结。阅读更多
原子层沉积镀膜系统ALD
通过气态前驱体交替脉冲通入反应腔，在基材表面进行自限制化学吸附与反应，沉积超薄、均匀、致密的原子级薄膜。阅读更多
原子层边缘钝化沉积整线系统
主要用于太阳能电池制造，其核心功能是在电池片边缘沉积钝化层，以提升电池的性能和稳定性。阅读更多
等离子体增强化学气相沉积设备PECVD
利用等离子体激活气态反应物，低温环境下在基材表面沉积均匀、致密的功能性薄膜。阅读更多

低压化学气相沉积镀膜设备LPCVD