利用等离子体激活气态反应物，低温环境下在基材表面沉积均匀、致密的功能性薄膜。
1、等离子体激活反应：通过射频、微波等方式电离反应气体，产生高活性等离子体，降低反应活化能，实现低温下的薄膜沉积。 2、多类型薄膜制备：可沉积氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、非晶硅等多种薄膜，适配不同功能需求。 3、工艺精准调控：精确控制反应压力、温度、气体流量、等离子体功率，实现薄膜厚度、成分、致密度的精准控制。 4、均匀性保障：通过优化腔体结构和等离子体分布，确保硅片表面薄膜的片内、片间均匀性。
