主要用于优化金属与半导体的接触，降低接触电阻，从而提高光伏电池的转换效率。
1、精确破坏钝化层：利用激光诱导局部载流子形成高电流密度，精确破坏局域钝化层形成银硅合金接触，在不损伤硅片基底的前提下，为金属接触提供良好的界面。
2、优化金属接触与降低电阻：通过激光诱导的方式，促进金属与硅片之间的良好接触，有效减少金属 – 半导体接触电阻，进而提升电池的填充因子和转换效率。拉普拉斯的 LIM 设备可使电池效率增益≥0.3% abs。
3、高产能：采用双工位同时进行激光工艺，产能较高。以拉普拉斯的设备为例，处理 18X 尺寸电池片时产能 > 9600 片 / 小时，处理 210 尺寸电池片时产能 > 9000 片 / 小时。
4、高稳定性与低碎片率：设备运行稳定，开机率≥98.5%，碎片率低，18X电池片碎片率≤0.02%，210电池片碎片率≤0.03%。
5、兼容性强：可兼容多种尺寸的硅片，适配 TOPCon整片、多分片以及0BB等多种版型。
6、工艺监测与不良品剔除：具备工艺电压电流实时监测功能，能够精准剔除 NG 片，保证产品质量的一致性。
7、激光加工方式灵活：标配面扫方案，采用方形大光斑处理电池片整面，调试难度低、稳定性与兼容性好，光路免维护。
8、工艺拓展性：兼容整片、多分片二次LIM，通过差异化激光处理方式补偿一次LIM工艺不充分或经其他工序后的衰退问题，具有额外0.05%abs的提效。
