核心功能是通过气态前驱体交替脉冲通入反应腔，在基材表面进行自限制化学吸附与反应，沉积超薄、均匀、致密的原子级薄膜。
1、自限制原子级沉积：两种及以上前驱体交替通入且不直接接触，每次脉冲仅形成单原子层或亚原子层薄膜，实现厚度精准可控。 2、极致均匀性与保形性：薄膜厚度均匀性可达原子级精度，且能完美覆盖复杂形貌基材（如深孔、微纳结构）的内外表面。 3、工艺精准调控：精确控制前驱体脉冲时间、 Purge 时间、反应温度、腔体压力，实现薄膜成分、结构、厚度的精准定制。
