拉普拉斯水平等离子增强原子层沉积水平镀膜系统 PEALD LAD400/04
拉普拉斯水平等离子增强原子层沉积水平镀膜系统 PEALD LAD400/04

拉普拉斯最新的等离子体增强原子层沉积水平镀膜系统可应用于各种高效太阳能电池AlOx和各种功能性薄膜的生长工艺,为各类太阳能电池核心工艺设备。

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系统的应用及特点

本设备水平放片,适合210mm大硅片生产,无卡点印,无划伤,能帮助客户提高电池效率和良率。


拉普拉斯等离子体增强原子层沉积水平镀膜系统 LAD400/04


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