拉普拉斯等离子增强化学气相沉积镀膜系统 PECVD Twin LPE430/10
拉普拉斯等离子增强化学气相沉积镀膜系统 PECVD Twin LPE430/10

拉普拉斯最新的等离子体增强化学气相沉积镀膜系统(镀膜机)可应用于各种高效电池AlOx和SiNx生长工艺,为各类太阳能电池生产和研发的核心工艺设备。

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系统的应用及特点:

本设备集成SiO2, SiC,AlOx和SiNx等多种镀膜工艺,能帮助客户降低固定资产投入,提高电池良率。本设备适合156-210mm硅片生产,具有行业内最高产能,能帮助客户降低固定资产投入和运营成本。


拉普拉斯等离子体增强化学气相沉积镀膜系统 LPE410/10

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