硅基半导体器件用ALD Pindola™系列Piax150型
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项   目

ALD(实验室型)

功  能

•  半导体应用用途的超薄膜:Al2O3, HfO2, ZrO2, TiO2, SrTiO3 等

重要参数

•  晶圆尺寸   8英寸  

•  温度范围   25℃ ~ 500℃  

•  前驱体数量三路或六路可选配  

•  工艺腔洁净度  100级

膜厚均匀性

•  ≤2%



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