硅基半导体器件用氧化炉Pindola™系列POX300型
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  • 产品介绍
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技术参数:

    1.  高精度温度场控制技术,能满足1200℃的高温工艺 

    2.  特殊的气体管道设计,确保工艺腔室的高洁净度 

    3.  低应力细丝+真空浇筑隔热的独特热场设计和自适应串级温控系统,更保证恒温区的高精度控温 

    4.  先进的颗粒控制技术 

    5.  增加工艺腔室闭环压力控制技术,确保工艺效果的均匀性 

    6.  稳定的传输系统和工艺模块设计,可兼容多种工艺要求


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