常规PECVD“拍了拍“拉普拉斯:你们不一样!
发布日期:
2020-06-19
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       时隔半年,再次说声2020年你好。你的开年着实有些意外,这样的登场大家都有些措手不及。每个人都在用自己的方式,应对你的到来,也期待你尽快回过神来,尽快进入状态。尼采说,每个不曾起舞的日子都是对生命的辜负,还好那些不能起舞的日子很快就会过去,接下来的日子里我们可以认真的笑、认真的哭、认真的年轻、认真的重启、认真的向前跑、认真的认识自己和世界,当然也要认识疫情隔离期间长高/变胖的亲友。在疫情的同时,光伏产业也处在了降本以及硅片尺寸的“战国时代”,增效降本对于光伏设备的发展提出了更高的要求,我们也见到了各种“长高”和“变胖”设备。长高/变胖于人而言都会变的能吃,于设备而言就是产能增大,尺寸兼容性好。人长高了,旧衣服穿着就不合身了,之前的床也不能睡了,有可能家里的大门也要换一换,家里的房顶也要改变;于光伏设备来说也一样,堆叠管数也带来了诸多不兼容问题。变胖对于人的身体健康危害严重各种高血压,心血管疾病等,于光伏设备来说也一样设备稳定可靠性也带来诸多影响(温度/结构/气场等)。如果有一款设备既能兼容五花八门尺寸,又能提升产能那就太好了;如果这款设备正好还能降低设备投资成本价格,那就真的太完美了。接下来就让我们认识下,疫情期间我们研发人员放弃了做蛋糕/凉皮,开发的集颜值功能以及性价比于一体的PECVD设备PECVDTWIN。


产品名称:“共享“式PECVD(等离子增强化学气相沉积系统)

产品型号:PECVD-TWIN系列

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设备制造商:深圳市拉普拉斯能源技术有限公司

设备用途:

       借助射频等能源使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,从而在基片上沉积出所期望的薄膜。可沉积氮化硅,碳化硅,氮氧化硅以及氧化铝等薄膜。相同设备平台,可以兼容低压化学气相沉积(LPCVD),也可以兼容等离子体增强原子层沉积(PEALD)。利用不同原理,该平台可以原位生长不同薄膜或者叠层薄膜,如SiNx,SiC,SiO2,Al2O3,Al2O3/SiNx,Si2O3/SiNx,SiO2/Si等,满足不同电池结构应用。

产品描述:

设计理念

保持直接式等离子体结构,采用稳定成熟的小管径平台,合理控制管径兼容不同尺寸硅片,利用背靠背TWIN设计提高产能。同时引入“共享”理念,整合“共享“PECVD所需关键零部件,降低设备成本,提供给客户最高性价比的产品。

设备特点

1、保持直接式等离子体结构,采用稳定成熟小管径平台,工艺成熟度高,产品稳定性好

2、并管TWIN设计,大产能装片量: 864-960片/层,共5层

3、背靠背设计,节省占地面积,较常规PECVD节省25%占地面积,单位面积产能提高40%

4、空间利用率高,采用小管径设计空间利用率比520管径高40%以上

5、“共享“式设计2管共用1台泵,节省固定资产投资;减少维护保养工作量

6、“共享“式设计2-4管共用等离子电源,节省固定资产投资;减少维护保养工作量

7、设备投资成本低,成本可降低10%~15%

8、模组:品牌模组,独立控制,同进出但不共享,更高设备使用灵活性;

9、关键部件采用目前市面最稳定,提高设备可靠性及稳定性

10、强大工艺集成能力,可沉积氮化硅,氮氧化硅,氧化铝,碳化硅等薄膜。同时可实现156~210全尺寸兼容。

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       并管TWIN设计介绍

1、并管“我们一样”,我们使用共同的泵,电源,蝶阀等价格昂贵元器件,我们使用共同的推舟机构同进同出

2、并管“我们不一样”,我们可以单独调试各自工艺,互不影响。一根有问题,另一根仍可以正常工作。


公司简介:

        深圳市拉普拉斯能源技术有限公司致力于成为泛半导体领域国产高端制造装备与解决方案的引领者,目前已在无锡设立拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司,并规划了90亩的制造中心,以解决客户端技术难点、产品交付等问题为己任,欢迎行业内朋友莅临拉普拉斯指导工作。

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