有着“阳光之城”美誉的蒙彼利埃难得的飘起了大雪，毕生致力于研究半导体热处理设备的老先生似乎已经看到自己的毕生所研在中国发展的宏大画面，作为全世界第一位发明水平低压高温处理设备的老先生决定同深圳市拉普拉斯能源技术有限公司合作，致力于成为半导体和光伏领域国产高端制造装备与解决方案引领者。

当前光伏行业已经翻天覆地，各方豪杰开疆拓土，群雄逐鹿。各环节的明星技术明星企业层出不穷，下一代电池新技术成为焦点，见证LAPLACE的时刻来了。

让我们一起只争朝夕，不负韶华。

深圳市拉普拉斯能源技术有限公司总部及高端装备研究院位于深圳，目前在江苏无锡正在建设超过10万平方米的半导体和光伏高端装备制造基地。 公司现有130多名员工，其中博士6名，硕士5名，技术研发人员占员工总数超过55%。公司高端装备研究院拥有一支包含9名外籍专家和6名博士在内的核心研发团队。

产品主要涵盖了低压水平扩散系统（包含硼扩散，磷扩散，氧化，退火）（reduced pressure boron diffusion, phosphorus diffusion, oxidation and annealing system）﹑低压化学气相沉积水平镀膜系统（low pressure chemical vapor deposition - LPCVD）﹑等离子体增强化学气相沉积水平镀膜系统（plasma enhanced chemical vapor deposition - PECVD）, 等离子增强原子层沉积镀膜系统（plasma enhanced atomic layer deposition – PEALD）等高端制造装备以及相关配套自动化系统和工业互联网云平台。

产品：低压水平扩散系统（包含硼扩散，磷扩散，氧化, 退火）

概述：

低压硼/磷扩散是半导体行业、光伏行业所广泛使用的N/P型掺杂技术，用于形成具备所需电学特性的PN结。目前在光伏行业主要用于PERC和TOPCon电池技术。TOPCon因其超高的转换效率及无LID衰减等特点发展非常迅速，而TOPCon技术使用的硼扩工艺因其制备难度大，温度高，时间长，设备维护使用费用高，所以近几年来一直是以进口设备为主要设备获取渠道。 而且因其使用液态BBr3为扩散源，其工艺、维护等方面非常繁杂，设备运营成本极高，所以国内设备厂商一直没有在硼扩设备上有所突破。 LAPLACE在低压水平硼扩设备上，大胆创新，国内独家使用水平放片及气态硼源，经过客户端长达2年的量产验证，该技术一举解决了硼扩工艺设备的运营成本高的问题，让TOPCon大规模量产变得更加简单更加可能。

优势：

1. 低压下，分子自由程增大，减少了气体的湍流，提高了扩散均匀性和稳定性。

2. 水平放置硅片对气流的影响较小，气流可传输更远，有效炉管更长，产能更大

3. 硅片背靠背水平放置，贴合紧密，高温下，减少绕扩散，形变量小，适用于超大超薄硅片。

4. 使用气态硼源，副产物只有粉末状的氧化硼，多级滤芯过滤，隔膜泵维护周期长。且无需水气清洗，降低设备爆管风险。（液态硼源工艺过程中会产生粘稠的副产物，沉积在炉门、石英舟、石英管、尾气管、隔膜泵上，致使相关部件寿命只有3-6个月）

5. 单管装片量≥2000片，且兼容158.75-210。

详细产品信息可参考我司网站或微信公众号，欢迎和我司人员做进一步沟通交流。

两百多年前，科学家拉普拉斯发明的拉普拉斯变换为人类解决复杂数学问题打开了一扇划时代的思想之门，如今，拉普拉斯团队立志于成为民族高端装备制造领域的领跑者，助推中国从制造大国向制造强国昂首迈进！