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新闻动态

02-26

2021

中环发起薄片化倡议，推动更薄单晶硅片应用

评论：国家十四五“碳中和”战略目标提出后，大力发展光伏等新能源的趋势已势在必行。而实现这一伟大目标光伏行业仍需持续降本增效。拉普拉斯作为一家16年成立的新兴光伏...

中环发起薄片化倡议，推动更薄单晶硅片应用

10-12

2020

拉普拉斯超高温退火炉在SiC/GaN等第三代半导体器...

半导体产业发展至今经历了三个阶段：第一代半导体材料以硅为代表，Si为代表的第一代半导体材料引发了集成电路为核心的微电子领域迅速发展，然而，由于硅材料的带隙较窄、...

拉普拉斯超高温退火炉在SiC/GaN等第三代半导体器件的应用介绍

10-09

2020

原子层沉积（ALD）技术和应用简介

原子层沉积（Atomic layer deposition，简称ALD）是一种基于气态前驱体在沉积表面发生化学吸附的纳米薄膜沉积技术，通过自限制性的前驱体交替饱...

原子层沉积（ALD）技术和应用简介

08-19

2020

LAPLACE助力N型硼扩降本和量产

随着市场对效率和品质的要求越来越高，单晶N型电池由于少子寿命高、光致衰减小，弱光响应好、温度系数高等优点已成为近年来高效电池产业化的热点技术。其中常规PERT和...

LAPLACE助力N型硼扩降本和量产